MC1000 Ion Sputter Coater adalah instrumen preparasi sampel untuk digunakan dengan Scanning Electron Microscope (SEM). MC1000 dirancang untuk mendeposisikan lapisan logam tipis, seperti platinum (Pt), emas (Au), paduan platinum-paladium (Pt-Pd), atau paduan emas-paladium (Au-Pd), agar permukaan sampel bersifat konduktif secara elektrik dan menghindari penumpukan muatan selama pengamatan di SEM. Ketebalan deposisi logam dapat diatur mulai dari beberapa nanometer hingga puluhan nanometer menggunakan kontrol layar sentuh LCD. Hingga 5 kondisi proses dapat disimpan.
MC1000 beroperasi melalui elektroda magnetron, yang berarti magnet dipasang pada target (elektroda negatif) untuk menghasilkan medan magnet yang tegak lurus terhadap medan listrik pada permukaan target. Hal ini meminimalkan kerusakan spesimen akibat iradiasi partikel yang bergerak cepat (termasuk ion yang terpantul) dan memungkinkan pelapisan dengan granularitas tinggi (partikel berdiameter lebih kecil).
Fitur:
| General Characteristic | |
|---|---|
| Discharge | Diode discharge magnetron type ; 0.4 kV DC max.; 40 mA DC max. Opposed parallel disk (magnet embedded) electrode form |
| Target | Au Target; Pt target; Pt-Pd target; Au-Pd target |
| Coating rate (max.) | Au target 25 nm/min; Pt target (option) 15 nm / min; Pt-Pd target (option) 20 nm / min; Au-Pd target (option) 25 nm/min (under condition 7 Pa, 40 mA discharge current) |
| Rotary Pump | 135 / 162 I / min (50/60 Hz) |
| Weight Main unit | Approx. 25 kg |
| Weight Rotary pump | Approx. 28 kg |
| Dimension Product | 450 (W) x 391 (D) x 390 (H) mm |
| Power supply requirements | Single phase, AC 100 V ( + 10%) 15 A, (50/60 Hz), 3-pin plug code (3m) |
| Specimen | |
| Max. diameter | Φ60 mm |
| Max. Height | 20 mm |
| MC1000 Ion Sputter Coater.pdf |
|---|
